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半導(dǎo)體工業(yè)純水設(shè)備工藝流程講解

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半導(dǎo)體工業(yè)純水設(shè)備工藝流程講解

文章作者: 宏森環(huán)保

   眾所周知,半導(dǎo)體工業(yè)對(duì)于純水的水質(zhì)要求是及其嚴(yán)格的,大部分的電子產(chǎn)品,如計(jì)算機(jī)、移動(dòng)電話或是數(shù)字錄音機(jī)當(dāng)中的核心單元都和半導(dǎo)體有著極為密切的關(guān)聯(lián), 因此無(wú)論從科技或是經(jīng)濟(jì)發(fā)展的角度來(lái)看,半導(dǎo)體的重要性都是非常巨大的。

工業(yè)純水設(shè)備,半導(dǎo)體純水設(shè)備

  今天來(lái)簡(jiǎn)單講解一下關(guān)于:半導(dǎo)體工業(yè)純水設(shè)備工藝流程;

  半導(dǎo)體工業(yè)純水設(shè)備常采用的水處理工藝是電去離子EDI系統(tǒng):

  電去離子也就是常說(shuō)的EDI,EDI系統(tǒng)采用的是一種離子交換技術(shù),子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。

  最新的水處理工藝流程(≥18MΩ.CM):

  原水預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象。

  傳統(tǒng)的水處理工藝流程(≥18MΩ.CM):

  原水預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象。

  采用EDI系統(tǒng)制取純水的優(yōu)勢(shì)有:

  1、EDI凈水設(shè)備具有連續(xù)出水;

  2、設(shè)備在運(yùn)行期間沒(méi)有加入化學(xué)藥劑,無(wú)需酸堿再生;

  3、設(shè)備采用的是全自動(dòng)的控制模式,因此可達(dá)到無(wú)人值守;

  4、設(shè)備安裝方便:EDI系統(tǒng)采用積木式結(jié)構(gòu),依據(jù)場(chǎng)地的高度和窨靈活地構(gòu)造;

  以上是小編整理的關(guān)于半導(dǎo)體工業(yè)純水設(shè)備工藝流程講解,如想了解關(guān)于半導(dǎo)體工業(yè)純水設(shè)備水質(zhì)為17MΩ.CM、15MΩ.CM等的水質(zhì)工藝流程可到宏森環(huán)保進(jìn)行詳細(xì)的資料查詢。